n型<100>掺硫GaP单晶研制  

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作  者:俞斌才[1] 邓志杰[1] 马三胜 刘锡田[1] 

机构地区:[1]北京有色金属研究总院

出  处:《稀有金属》1992年第6期467-470,共4页Chinese Journal of Rare Metals

摘  要:近年来,国内对发光二极管(LED)的需求量越来越大,并由单一的红、绿色向多色化发展。本文报道了黄、橙、红色LED用n型GaP单晶衬底的生长工艺及产品用作衬底和芯片的使用情况。 (一)单晶制备 单晶生长在MSR6R高压单晶炉内进行,石墨电阻加热。99.9999%的高纯镓及高纯磷先期在高压合成炉内制成GaP多晶。

关 键 词:磷化镓 单晶  掺杂剂 N型半导体 

分 类 号:TN304.23[电子电信—物理电子学]

 

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