磁控溅射纳米PtSi薄膜表面和界面特征  

作　　者：殷景华[1] 蔡伟[2] 王明光[3] 郑玉峰[2] 李美成[2] 王培林[2] 赵连城[2] 

机构地区：[1]哈尔滨理工大学应用科学学院，哈尔滨150080 [2]哈尔滨工业大学材料科学与工程学院，哈尔滨150001 [3]中国科学院沈阳金属研究所固体原子像实验室，沈阳110015

出　　处：《Journal of Semiconductors》2003年第B05期74-77,共4页半导体学报（英文版）

摘　　要：采用磁控溅射方法在p—Si(111)衬底上淀积5nmPt膜，退火后形成PtSi薄膜，利用原子力显微镜和高分辨电子显微镜观察了PtSi薄膜的表面和界面特征。实验结果表明，工艺条件影响PtSi薄膜的微观组织结构和表面形貌，随着衬底温度增加，薄膜表面由柱晶状团簇变为扁平状团簇，薄膜显微结构由多层变为单层，衬底加热有利于形成界面清晰、结构完整、成分单一的PtSi薄膜。

关 键 词：PtSi薄膜 表面形貌 界面结构 

分 类 号：TN304.2[电子电信—物理电子学]