软X射线激光用分束镜研制  

作　　者：王占山[1] 吴永刚[1] 唐伟星[1] 秦树基[1] 陈玲燕[1] 徐向东[2] 洪义麟[2] 付绍军[2] 朱杰[3] 崔明启[3] 

机构地区：[1]同济大学精密光学工程技术研究所,同济大学物理系,上海200092 [2]中国科学技术大学同步辐射国家重点实验室,合肥230029 [3]中国科学院高能物理研究所,北京100039

出　　处：《科学通报》2003年第13期1398-1401,共4页Chinese Science Bulletin

基　　金：国家自然科学基金资助(批准号:69989801,60178021);国家“八六三”计划基金资助项目.

摘　　要：软X射线干涉测量是通过软X射线激光经过Mach-zehnder干涉仪完成的,是测量临界面附近等离子体状态的重要方法。基于软X射线多层膜的性能特点,指出软X射线干涉测量的干涉仪各光学元件的入射角越接近正入射越好,分束镜的设计应以其反射率和透过率的乘积为衡量标准。用离子束溅射法制作了类镍银13.9 nm软X射线激光干涉测量所需的分束镜,实测表明其面形精度达到纳米量级,反射率和透过率乘积大于1.6％。

关 键 词：软X射线激光 分束镜 多层膜 干涉 临界面 等离子体 离子束溅射法 

分 类 号：TH744[机械工程—光学工程]