薄膜斜生长的微观模型和理论计算  

THE PHYSICAL MODEL AND THEORETICAL CALCULATIONS OF OBLIQUE GROWTH IN FILMS

作　　者：李晓萍[1] 杨杰[1] 范玉殿[1] 

机构地区：[1]清华大学材料科学与工程系,北京100084

出　　处：《真空科学与技术》1992年第5期371-378,共8页Vacuum Science and Technology

基　　金：国家自然科学基金资助 (NsPC.9587007)

摘　　要：提出一种几何屏蔽的物理模型,用平均的方法定量计算了气相沉积薄膜中柱状结构的斜生长方向,并且用此模型对Thornton的结构区域图中1区和T区的形成进行了半定量的解释。A physical model of oblique growth is established in the case of films deposited under the condition of low mobility. The mean orientation direction of the columnar is calculated and a semi-quantitative explanation of the formation condition of Zone 1 and Zone T in Thornton's SZM is given by means of calculations with this model.

关 键 词：薄膜物理学 气相沉积 生长 结构 

分 类 号：O484.1[理学—固体物理]