杨杰

作品数：10被引量：15H指数：2
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发文领域：理学电子电信金属学及工艺自动化与计算机技术更多>>
发文期刊：《微细加工技术》《无机材料学报》《Journal of Semiconductors》《中国环保产业》更多>>
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《石油化工企业场地地下水污染防治技术指南》解读被引量：2
《中国环保产业》2022年第12期54-59,共6页赵倩 李广贺 张芳 王文峰 李书鹏 赵勇胜 陈坚 朱岗辉 曹红英 杨杰 刘波 
文章针对中国环境保护产业协会发布的《石油化工企业场地地下水污染防治技术指南》(T/CAEPI39—2021)(以下简称《指南》),详细解读了《指南》制定的背景、意义与作用,重点分析了《指南》的关键技术内容及参数要求,希望对该《指南》的理...
关键词：石油化工企业场地 标准 解读 
现场XRD法研究PAN长丝在低温热解过程中取向参数的变化
《高分子材料科学与工程》2000年第2期80-82,共3页赵根祥 杨杰 
采用现场 XRD(X射线衍射 )法对 PAN(聚丙烯腈 )长丝在低温热解过程中取向参数的变化进行了探索性的研究。实验结果表明 ,PAN纤维中的蕴晶对纤维轴有明显的择优取向。当热解温度升到 2 0 0℃时 ,纤维内部的大分子链发生解取向现象 ,从而...
关键词：聚丙烯腈 长丝 低温热解 取向参数 XRD 
(001)取向硅基底上异质外延金刚石薄膜实验研究被引量：2
《自然科学进展（国家重点实验室通讯）》1995年第2期233-235,共3页杨杰 陈启瑾 林彰达 王利新 金星 张泽 
国家自然科学基金;"八六三"高科技基金;中关村分析测试中心基金;博士后基金
单晶硅基底上异质外延生长单晶金刚石薄膜具有重要的理论和实际意义,有广阔的应用前景。它是世界上技术先进国家重点研究课题之一,也是材料工作者的努力方向。目前金刚石薄膜的外延仅局限于同质外延和在微米量级的立方氮化硼(C-BN)上生...
关键词：金刚石薄膜 外延生长 界面结构 硅基底 
用离子束辅助淀积多层薄膜技术合成Co－Si化合物薄膜的研究被引量：1
《Journal of Semiconductors》1994年第8期533-539,共7页杨杰 阎忻水 陶琨 范玉殿 
国家自然科学基金;中关村分析测试基金
本文通过离子束辅助淀积（ＩＢＡＤ）与真空淀积多层膜技术相结合，淀积合成Ｃｏ－Ｓｉ薄膜，ＲＢＳ和ＸＲＤ分析表明：在无离子束轰击条件下利用电子束蒸镀Ｃｏ／Ｓｉ多层膜，得到的是由α－Ｃｏ与非晶Ｓｉ组成的薄膜．薄膜与Ｓｉ（１...
关键词：硅化物 化合物薄膜 离子束 沉积 
氩离子束辅助淀积Cu/Si薄膜相变研究
《真空科学与技术》1994年第3期187-191,共5页杨杰 范玉殿 陶琨 
用实验的方法研究了PVD，IBAD和IBAD－PVD复合等不同方法在硅基底上镀制Cu膜的结构特点及真空退火时的结构变化。利用XRD，RBS，SEM等分析手段对比研究它们的结构变化特点，发现IBADCu（20nm）层＋PVDCu膜（350nm）的复合薄膜样品在退...
关键词：离子束 淀积 薄膜 相变 硅基体 铜 
离子束辅助沉积制备多晶Al_2O_3薄膜被引量：2
《材料科学进展》1993年第6期521-525,共5页王晨 杨杰 范玉殿 陶琨 
国家自然科学基金 69391200
利用电子枪蒸镀 Al_2O_3,同时辅以 Ar 离子轰击的离子束辅助沉积方法(IBAD)制备 Al_2O_3薄膜,并与单纯电子枪蒸镀方法(PVD)制备的薄膜进行了结构和表面形貌的比较。IBAD 法可以得到结构均匀致密的γ-Al_2O_3晶态薄膜,而 PVD 方法仅能得...
关键词：离子束 氧化铝 薄膜 物理气相沉积 
铜薄膜与Al_2O_3陶瓷界面结合力的IBAD过渡层增强被引量：4
《真空科学与技术》1993年第5期352-355,共4页杨杰 王晨 陶琨 范毓殿 
国家自然科学基金;中关村分析测试基金
利用离子束辅助淀积(IBAD)方法在Al_2O_3陶瓷基片上镀制过渡金属层,然后在此过渡层上进一步用电子束蒸发镀制铜导电薄膜。这种复合方法镀制的铜膜在具有低电阻率的同时,界面附着力有大幅度增加。在本文实验条件下,有IBAD铜或钛过渡层薄...
关键词：陶瓷基片 铜 薄膜 IBAD 镀膜 
不同能量离子束辅助淀积合成氮化铝薄膜的研究被引量：2
《无机材料学报》1993年第3期316-320,共5页杨杰 王晨 陶琨 范玉殿 
国家自然科学基金;中关村分析测试基金资助
用不同轰击能量的氮离子束辅助淀积(IBAD)铝,合成氮化铝薄膜.通过 X 射线衍射(XRD)、X光电子谱(XPS)、离子背散射(RBS)、透射电子显微镜(TEM)和扫描电子显微镜(SEM)等分析手段对所合成的薄膜进行了成份分布和结构分析.实验表明,在氮离...
关键词：氮化铝 薄膜 离子束 淀积 晶体 
IBAD技术的开发被引量：1
《微细加工技术》1993年第1期42-48,共7页杨杰 陶琨 范玉殿 
IBAD(离子束辅助淀积)是一种很有潜力的材料表面改性和优质薄膜合成技术。本文在论述它在薄膜科学研究中的特点和应用基础上,提出了IBAD技术的开发方向,给出了利用IBAD—PVD复合镀膜技术进行异质材料界面设计和利用IBAD—PVD复合淀积多...
关键词：离子束辅助淀积 离子注入 薄膜 镀膜 
薄膜斜生长的微观模型和理论计算被引量：1
《真空科学与技术》1992年第5期371-378,共8页李晓萍 杨杰 范玉殿 
国家自然科学基金资助 (NsPC.9587007)
提出一种几何屏蔽的物理模型,用平均的方法定量计算了气相沉积薄膜中柱状结构的斜生长方向,并且用此模型对Thornton的结构区域图中1区和T区的形成进行了半定量的解释。
关键词：薄膜物理学 气相沉积 生长 结构 
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