基于工业控制计算机的MOCVD控制系统设计  

Design of Computer Controlled MOCVD System

作　　者：刘昌军[1] 过润秋[1] 

机构地区：[1]西安电子科技大学,陕西西安710071

出　　处：《现代电子技术》2004年第10期101-102,105,共3页Modern Electronics Technique

基　　金：国防预先研究重大项目

摘　　要：金属有机物化学气相淀积 ( MOCVD)技术是当前研制和生产先进化合物半导体材料的最主要技术。本文结合Ga N材料生长的 MOCVD系统研制 ,给出了 MOCVD计算机控制系统 ,该系统采用工业控制计算机实现了整个系统的控制和管理 。Modern MOCVD technology has been a key technology in developing and manufacturing advanced compound semiconductor materials In this paper, based ondeveloping MOCVD system grown GaN material, a computer controlled MOCVD system is well implemented for the control and management of the whole materialgrowing process It is satisfactory for the system in material growth

关 键 词：MOCVD 计算机控制系统 C^++ GAN 

分 类 号：TP368.1[自动化与计算机技术—计算机系统结构]