复合电磁磁控溅射靶及其镀膜方法  

作　　者：范玉殿[1] 马志龙[1] 孙培芬 尤引娟[1] 

机构地区：[1]清华大学材料科学与工程系

出　　处：《物理》1992年第9期573-574,共2页Physics

关 键 词：磁控溅射靶 镀膜 溅射 复合电磁靶 

分 类 号：TG174.442[金属学及工艺—金属表面处理]