国家自然科学基金(61335004)

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相关主题：垂直腔面发射激光器高速调制垂直面BCB苯并环丁烯更多>>
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湿法腐蚀和干法刻蚀工艺对850nm VCSEL高速调制性能的影响
《半导体光电》2017年第6期826-829,共4页董建 何晓颖 胡帅 何艳 吕本顺 李冲 郭霞 
国家自然科学基金项目(61335004);国家"863"计划项目(2015AA017101)
垂直腔面发射激光器(VCSEL)以其低功耗、低阈值电流、高调制速率和易制作二维阵列器件等特点,广泛应用于短距离光互连领域。湿法腐蚀和干法刻蚀作为高速VCSEL台面结构制备的两种工艺,影响VCSEL氧化层的大小。文章研究了氧化层面积对寄...
关键词：垂直腔面发射激光器 高速调制 湿法腐蚀 干法刻蚀 
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