南京理工大学中国-白俄罗斯真空等离子体技术国际科学实验室

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发文主题:TION掺杂TIO2N掺杂复合膜N更多>>
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N掺杂TiO_2复合膜中N晶格位置转变
《南京工业大学学报(自然科学版)》2016年第6期70-75,共6页刘光辉 江晓红 庄玉召 陆路德 PILIPTSOU D G ROGACHEV A V 
国家自然科学基金(51373077);科技部政府间合作项目(CB11-9;CB11-10)
采用磁过滤真空直流阴极弧蒸发工艺在石英基底上沉积N掺杂Ti薄膜,随后将其在马弗炉中以不同的退火温度(100~700℃)热处理制备N掺杂TiO2薄膜,采用X线衍射仪(XRD)、拉曼光谱仪(Raman)、X线光电子能谱( XPS)和扫描电子显微镜( ...
关键词:N掺杂Ti薄膜 N掺杂TIO2 薄膜 替代型N 填隙型N 
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