电流峰谷比

作品数:7被引量:3H指数:1
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相关机构:天津大学中国电子科技集团第十三研究所武汉大学中国电子科技集团公司第十三研究所更多>>
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基于0.5μm标准CMOS工艺的新型Λ负阻器件
《科学通报》2011年第36期3054-3056,共3页陈燕 毛陆虹 郭维廉 于欣 张世林 谢生 
国家自然科学基金资助项目(61036002)
介绍了一种新型的I-V特性为Λ型的负阻器件(negative resistance device,NRT),该器件使用上华0.5μm标准互补金属氧化物半导体(complementary metal-oxide-semiconductor transistor,CMOS)工艺制造.为节省器件数目,此类负阻器件并不调...
关键词:∧型负阻器件 CMOS P 型基区层 电流峰谷比 低功耗 
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