灰度掩模

作品数：20被引量：42H指数：4
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灰度掩模制作系统掩模图形的生成及工艺研究被引量：2
《激光技术》2004年第4期406-409,共4页杨智 戴一帆 颜树华 
国家自然科学基金资助项目 (5 0 0 0 5 0 2 2 )
灰度掩模法是目前正在积极探索的一种二元光学器件制作方法。从基于空间光调制器的灰度掩模制作方法出发 ,就“掩模图形的生成”和“工艺”这两个难点问题进行了深入的研究 ,并具体地制作了几种常用的二元光学器件的灰度掩模 。
关键词：空间光调制器 灰度掩模 工艺 二元光学 
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