激光干涉光刻

作品数：18被引量：50H指数：5
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一种大面积二维石英纳米结构制备的工艺研究
《中国测试》2015年第S1期1-5,共5页郑杰 李玲 吕厚祥 王诗琴 宫云志 刘贤超 
中国科学院光电技术研究所微细加工国家重点实验室开放基金项目(KFS4)
介绍一种采用紫外(363.8nm)激光干涉光刻得到大面积二维纳米点阵结构的方法,该技术具有操作简单、光路搭建成本低、可以大面积加工微纳图形结构等优点;并利用等离子体刻蚀传递,获得周期为200nm的二维石英纳米点阵结构。通过光刻工艺与...
关键词：激光干涉光刻 等离子体刻蚀 纳米结构 紫外可见光分光光度计 紫外透过率 
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