防护膜

作品数：93被引量：85H指数：5
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EUV光刻技术的难点分析被引量：1
《集成电路应用》2017年第11期47-51,共5页Mark LaPedus 
极紫外(EUV)光刻技术正蓄势待发,但为了将这项人们期待已久的技术用于大规模生产,还仍然有一些难题有待解决。EUV光刻是在芯片上图案化微小特征的下一代技术,原本预期在2012年左右投入生产。但这么多年过去了,EUV不断延后,从一个节点拖...
关键词：集成电路制造 EUV光刻 图案对准 光源 防护膜 
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