SOI工艺

作品数:82被引量:86H指数:5
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相关机构:中国科学院大学中国科学院中国电子科技集团第五十八研究所杭州电子科技大学更多>>
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用于新一代蓝牙BLE系统的22nm CMOS SOI工艺E类功率放大器设计
《电子技术(上海)》2021年第12期1-3,共3页阮颖 
阐述22nm CMOS SOI工艺设计一款用于新一代蓝牙BLE5.2系统的E类功率放大器,它采用两级差分结构,由三级反相器级联的缓冲器和Cascode晶体管堆叠结构的功率级构成,有效地防止功率晶体管击穿同时,提高了功率放大器的效率。仿真表明,在2.4~2...
关键词:集成电路设计 功率放大器 BLE SOI 
22nm FDSOI工艺单粒子瞬态脉宽研究被引量:1
《电子技术(上海)》2020年第2期7-9,共3页沈磊 徐烈伟 赵凯 
上海市软件和集成电路专项(180102)。
针对空间用集成电路共性技术问题,在22nm FDSOI(Fully Depleted Silicon on Insulator)工艺上开展单粒子效应技术研究意义重大。设计一款宽量程、高分辨率、精度可校准的SET(Single Event Transient)测试芯片,并经过实际流片和单粒子地...
关键词:集成电路设计 FDSOI SET 脉冲宽度 单粒子模拟 
40Mb单片抗辐射SRAM存储器芯片
《电子技术(上海)》2020年第2期1-3,共3页沈磊 赵凯 王海华 
上海市战略性新兴产业重大项目(2019-1204)。
抗辐射大容量SRAM存储器是航天航空电子系统中的关键微电路产品。依托先进的22nm FDSOI CMOS工艺制造平台,设计了一款高性能单片40Mb抗辐射异步SRAM。单粒子地面模拟试验结果显示,该大容量SRAM具有优秀的抗单粒子翻转能力,是目前已知具...
关键词:集成电路设计 SRAM存储器 单片芯片 单粒子效应 FDSOI工艺 
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