亚表面损伤层

作品数:13被引量:81H指数:5
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相关领域:电子电信金属学及工艺更多>>
相关作者:郑红军王卓戴一帆卜俊鹏刘华松更多>>
相关机构:中国科学院中国工程物理研究院国防科学技术大学天津津航技术物理研究所更多>>
相关期刊:《航空精密制造技术》《压电与声光》《电子工业专用设备》《人工晶体学报》更多>>
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  • 主题=刻蚀x
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低亚表面损伤石英光学基底的加工和检测技术被引量:14
《强激光与粒子束》2010年第9期2181-2185,共5页马彬 沈正祥 张众 贺鹏飞 季一勤 刘华松 刘丹丹 王占山 
国家自然科学基金项目(10825521);上海市科委基金项目(07DZ22302);上海市博士后科研资助计划(10R21416000);江苏省现代光学技术省重点实验室开放课题(KJS0901)
制备低亚表面损伤的超光滑光学基底,是获得高损伤阈值薄膜的前提条件。针对石英材料在不同加工工序中引入亚表面损伤层的差异,首先利用共焦显微成像结合光散射的层析扫描技术,对W10和W5牌号SiC磨料研磨后的亚表面缺陷进行了检测,讨论了...
关键词:亚表面损伤层 共焦显微成像 光散射 化学腐蚀 刻蚀速率 
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