CVD设备

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AMAT发布采用UV固化技术的low-k成膜设备
《机电工程技术》2006年第8期8-8,共1页
美国应用材料公司（AMAT）日前发布了面向45nm工艺（hp65）、能够形成相对介电常数为2．5的低介电常数（low-k）膜的CVD设备“Applied Produeer Black DiamondⅡ”。
关键词：成膜设备 UV固化技术 相对介电常数 CVD设备 低介电常数 美国应用材料公司 
AMAT发布采用UV固化技术的low-k成膜设备
《机电工程技术》2006年第1期9-9,共1页
美国应用材料公司（AMAT）日前发布了面向45nm工艺（hp65）、能够形成相对介电常数为2.5的低介电常数（low-k）膜的CVD设备“Applied Producer Balck Diamond Ⅱ”。
关键词：成膜设备 UV固化技术 PRODUCER Applied Diamond 应用材料公司 相对介电常数 CVD设备 低介电常数 
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