MO/SI

作品数：67被引量：142H指数：7
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Application of Reactive Ion Etching to the Fabrication of Microstructure on Mo/Si Multilayer被引量：1
《Chinese Physics Letters》1999年第9期665-666,共2页LE Zi-chun L.Dreeskornfeld S.Rahn R.Segler U.Kleineberg U.Heinzmann 
the German Research Society Deutsche Forschungsgesellschaft(Forschergruppe Nanometerschichtsysteme).
Mo/Si muitilayer mirrors(30 periods,doublelayer thickness 7nm)with the AZ-PF514 resist pattern whose smallest lines and spaces structure was 0.5pm were etched by reactive ion etching(RIE)in a fluorinated plasma.The et...
关键词：MO/SI smallest SELECTIVITY 
Stability of Mo/Si Multilayer Structure Used in Bragg-Fresnel Optics
《Chinese Physics Letters》1998年第7期522-524,共3页LE Zi-chun CAO Jian-lin LIANG Jing-qiu PEI Shu YAO Jin-song CUI Cheng-jia LI Xing-lin 
Supported by the National Natural Science Foundation of China under Grant No.69578023。
The thermal and chemical stabilities of Mo/Si multilayer structure used in Bragg-Fresnel optics were studied to get optimal technological parameters of pattern generation.Mo/Si multilayers were annealed at temperature...
关键词：MO/SI FRESNEL OPTICS 
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