标准晶体

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Si晶格常数超高精度传递测量中的标准晶体及制备
《Journal of Semiconductors》1991年第7期435-440,共6页高维滨 
用XROI(X-Ray/Optics Interferometry)法测得高精度的Si(220)面间距,22.5℃为192015.902±0.019 fm.并发展了晶格常数超高精度测量传递方法.本文根据传递测量的原理及测量技术阐明了对标准晶体制备的要求.文中给出了我们的标准晶体的尺...
关键词：硅晶格 测量 标准晶体 制造 
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