深反应离子刻蚀

作品数:39被引量:103H指数:5
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相关领域:电子电信自动化与计算机技术更多>>
相关作者:王跃林李昕欣冯进军陈宜方杨恒更多>>
相关机构:中国科学院北京大学浙江大学中国工程物理研究院电子工程研究所更多>>
相关期刊:《微纳电子技术》《真空科学与技术学报》《光机电信息》《固体电子学研究与进展》更多>>
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