董军

作品数:1被引量:8H指数:1
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供职机构:华南师范大学光电子材料与技术研究所更多>>
发文主题:TIO_2薄膜光电退火处理退火TIO2更多>>
发文领域:理学更多>>
发文期刊:《物理学报》更多>>
所获基金:广东省教育部产学研结合项目国家自然科学基金广东省自然科学基金广东省科技攻关计划更多>>
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H_2气氛退火处理对Nb掺杂TiO_2薄膜光电性能的影响被引量:8
《物理学报》2014年第6期278-283,共6页张彬 王伟丽 牛巧利 邹贤劭 董军 章勇 
广东省科技攻关项目(批准号:2012B010200032);国家自然科学基金(批准号:U1174001);广东省自然科学基金(批准号:S2011010003400);广东省省部产学研项目(批准号:2011A091000033);广州市珠江科技新星项目(批准号:2012J2200023)资助的课题~~
采用电子束沉积方法,以钛酸锶(SrTiO3)为衬底制备铌(Nb)掺杂TiO2薄膜并研究后续H2气氛退火处理对其薄膜样品光电性能的影响.结果发现H2气氛热退火处理能有效改善Nb掺杂TiO2薄膜的导电率,最佳电阻率达到5.46×10-3Ω·cm,在可见光范围内...
关键词:Nb掺杂TiO2 电子束沉积 退火 薄膜 Nb-doped TIO2 
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