刘青益

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供职机构：许昌职业技术学院规划建筑工程系更多>>
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PBD空穴缓冲层对有机电致发光器件的改善作用
《光子技术》2005年第1期14-16,共3页张志峰 刘青益 郭栋 苏展 
实验中制备了不同厚度的缓冲层PBD修饰的有机电致发光器件以及没有缓冲层修饰的有机器件。通过比较发现缓冲层PBD的最优厚度为0.2nm,缓冲层PBD对于器件亮度有显著的影响。当缓冲层PBD厚度为0.2nm,相同电压下器件的亮度要比无缓冲层器件...
关键词：缓冲层 有机电致发光器件 亮度 D/A 注入 空穴 厚度 最优 修饰 电压 
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