刘光友

作品数：3被引量：18H指数：2
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供职机构：西南大学物理科学与技术学院（电子信息工程学院）更多>>
发文主题：硅抗反射膜电化学制备折射率发光更多>>
发文领域：理学机械工程更多>>
发文期刊：《物理学报》《仪器仪表用户》更多>>
所获基金：教育部科学技术研究重点项目教育部“新世纪优秀人才支持计划”更多>>
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有机吸附物对多孔硅微腔发光的影响被引量：4
《物理学报》2008年第8期5302-5309,共8页刘光友 谭兴文 王振 姚金才 熊祖洪 
教育部新世纪优秀人才支持计划(批准号:NCET-05-0772);教育部科学技术研究重点项目(批准号:105145);西南大学科学技术研究基金(批准号:SWNUB2005030)资助的课题~~
理论上,采用Bruggeman有效介质近似,研究了有机吸附物对多孔硅微腔的折射率及其光致发光谱的影响.实验上,采用计算机控制的电化学腐蚀法制备了多孔硅微腔样品,并利用机械泵油的蒸气分子与该微腔样品进行相互作用.研究发现,多孔硅微腔发...
关键词：Bruggeman近似 吸附物 多孔硅微腔 光致发光谱 
电化学制备薄黑硅抗反射膜被引量：13
《物理学报》2008年第1期514-518,共5页刘光友 谭兴文 姚金才 王振 熊祖洪 
教育部科学技术研究重点项目(批准号:105145);教育部新世纪优秀人才支持计划(批准号:NCET-05-0772);西南大学科技基金(批准号:SWNUB2005030)资助的课题~~
采用计算机控制电流密度按指数规律衰减对单晶硅进行电化学腐蚀,得到了折射率随薄膜厚度连续均匀变化的抗反射膜,即黑硅样品.这种在制取上快速、经济和工艺非常简单的样品,不仅在较宽波段范围内反射率小于5%,且整个薄膜厚度不足1μm.利...
关键词：多孑L硅 折射率 抗反射膜 黑硅 
基于LabVIEW制备硅基一维光子晶体的计算机驱动程序被引量：1
《仪器仪表用户》2006年第6期84-86,共3页陈平 刘光友 傅添智 熊祖洪 
教育部科技研究重点项目(105145);西南大学科技项目(SWNUB2005030)资助
在制备硅基一维光子晶体如多孔硅分布Bragg反射镜和多孔硅微腔的实验中,为实现电脑程序驱动的电化学腐蚀平台的精确控制,使制备的光子晶体高低折射率层的界面更平整和硅孔大小更加均匀,我们利用NI推出的虚拟仪器开发平台软件LabVIEW缩...
关键词：LABVIEW 硅基一维光子晶体 电化学腐蚀 
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