江敏华

作品数：1被引量：3H指数：1
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供职机构：中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
发文主题：表面形貌氧分压SIO2薄膜光学性质机械性质更多>>
发文领域：理学更多>>
发文期刊：《光子学报》更多>>
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氧分压对电子束蒸发SiO_2薄膜机械性质和光学性质的影响被引量：3
《光子学报》2005年第5期742-745,共4页邵淑英 范正修 邵建达 沈卫星 江敏华 
采用ZYGOMarkⅢ- GPI数字波面干涉仪、NamoScopeⅢa型原子力显微镜对不同氧分压下电子束蒸发方法制备的SiO2 薄膜中的残余应力及表面形貌进行了研究,结果发现:随着氧分压的增大,薄膜中的压应力值逐渐减小,最后变为张应力状态;同时薄膜...
关键词：SIO2薄膜 氧分压 残余应力 表面形貌 折射率 电子束蒸发 
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