张世表

作品数:6被引量:4H指数:1
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供职机构:南开大学更多>>
发文主题:极图织构改性晶体硅化物薄膜更多>>
发文领域:理学一般工业技术文化科学更多>>
发文期刊:《太原理工大学学报》《人工晶体学报》《真空科学与技术学报》《红河学院学报》更多>>
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用Read X射线相机分析薄膜织构的方法研究
《太原理工大学学报》1999年第3期320-322,共3页李秀燕 张世表 
提出用ReadX射线相机照相制作多晶薄膜极图,进而确定薄膜织构的方法,并推导出相关公式。
关键词:Reda相机 X射线相机 极图 薄膜 织构 微结构 
CoSi_2薄膜电学性质研究
《太原理工大学学报》1999年第2期191-193,共3页李秀燕 张世表 潘士宏 李麓维 
对厚度约为0.4μm的CoSi2多晶薄膜的电学性质进行了研究。在-200℃~20℃温度范围,测量了CoSi2薄膜的电阻率。室温下,电阻率为9~20μΩ·cm.随着温度的降低,电阻率减小,且表现出较好的直线性。
关键词:电阻率 多晶薄膜 硅化钴 薄膜 电学性质 
CoSi_2 薄膜的织构研究被引量:2
《太原理工大学学报》1998年第4期370-372,375,共4页李秀燕 张世表 潘士宏 李麓维 
对厚度约为0.4μm的CoSi2多晶薄膜的织构进行了研究。X射线极图分析表明,薄膜表现出与以往文献中所报导的CoSi2薄膜完全不同的织构类型。在Si(111)衬底上织构轴为[130],且平行于Si[111]。除[13...
关键词:织构 极图 硅化钴 薄膜 
钴硅化物的X光研究
《红河学院学报》1990年第4期57-69,共13页黄晖 张世表 
本文采用READx光相机照像的方法,对部分不同退火温度和退火时间的Co/si系薄膜样品进行了x射线衍射分析,对目前尚有争议的一些问题给出了部分实验结果和结论。并对Co/si薄膜反应中出现的织构情况,我们通过对READx光相机加入新的照像方法...
关键词:钴硅化物 x-ray衍射 
一种新的改性TGS单晶—AMTGS被引量:1
《人工晶体学报》1990年第2期123-127,共5页郑吉民 范京富 车云霞 申泮文 张世表 朱亚平 温金珂 王华馥 
本文报导了用氨基甲磺酸部分取代硫酸三甘肽(TGS)晶体中的甘氨酸,生长出来的新晶体为硫酸三甘肽/氨基甲磺酸(AMTGS)。讨论了生长环境及其生长习性。进行了硫的元素分析,测定了晶体的介电和热释电性能。实验发现:AMTGS晶体易于生长,可以...
关键词:硫酸三甘肽 氨基甲磺酸 晶体 
钴硅化物薄膜的X光分析被引量:1
《真空科学与技术学报》1990年第2期104-108,共5页张世表 李秀燕 李宝会 李麓维 薛召南 潘士宏 
国家自然科学基金
对真空蒸镀在Si(111)衬底上的钻膜及退火后在CO/Si界面形成的钻硅化物薄膜进行了研究。所用仪器为X光衍射仪和改进型Read相机。测定了Co、Co_2Si、CoSi及CoSi_2薄膜的晶格常数和织构,并对Co/Si界面在低温退火(<500℃)过程中硅化物的演...
关键词:硅化物 薄膜层 金属钴 低温退火 晶格常数 退火过程 真空蒸镀 退火温度 退火时间 衍射谱 
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