陈绍武

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发文主题：PROCESSPROBLEMPHOTONIC_CRYSTALPATTERNINGSTITCHING更多>>
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An All-E-Beam Lithography Process for the Patterning of 2D Photonic Crystal Waveguide Devices
《Journal of Semiconductors》2006年第11期1894-1899,共6页余和军 余金中 陈绍武 
国家自然科学基金资助项目(批准号:60537010)~~
We present an all-e-beam lithography （EBL） process for the patterning of photonic crystal waveguides. The whole device structures are exposed in two steps. Holes constituting the photonic crystal lattice and defects...
关键词：photonic crystal e-beam lithography stitching problem proximity effect correction 
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