张文钊

作品数：1被引量：4H指数：1
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发文主题：钨碳共沉积射频磁控溅射更多>>
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氘在碳钨共沉积层中的滞留行为研究被引量：4
《物理学报》2013年第19期328-333,共6页张文钊 唐兴华 李嘉庆 施立群 
国家自然科学基金(批准号:10975035);国家磁约束聚变科学计划(批准号:2010GB104002)资助的课题~~
运用射频磁控溅射方法,在氘氩混合气氛中制备了含氘碳钨共沉积薄膜.利用离子束分析方法[卢瑟福背散射(RBS)和弹性反冲(ERD)]对薄膜样品的厚度、成分、氘含量等进行了分析;利用拉曼光谱和扫描电子显微镜(SEM),分别分析了薄膜的结构和表...
关键词：氘滞留 碳钨共沉积 射频磁控溅射 
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