李有希

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溅射非晶态薄膜磁性的控制
《材料保护》2004年第11期35-37,共3页柳丽娜 高诚辉 李有希 李友遐 
　微电子技术的迅速发展要求电子元件薄膜化,从而促进了磁性薄膜的发展。为了达到控制溅射非晶态薄膜磁性的目的,从溅射非晶态薄膜的组成成分、溅射工艺参数、基体材料及温度、膜层厚度和镀后热处理工艺等几方面论述了影响非晶态溅射薄...
关键词：非晶态薄膜 溅射 磁性 
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