汪保卫

作品数：8被引量：40H指数：4
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供职机构：中山大学更多>>
发文主题：磁控溅射制备光学性质直流反应磁控溅射二氧化钛薄膜TIO_2薄膜更多>>
发文领域：一般工业技术理学生物学动力工程及工程热物理更多>>
发文期刊：《真空科学与技术学报》《真空》《材料科学与工程学报》《武汉大学学报（理学版）》更多>>
所获基金：国家自然科学基金广东省教育部产学研结合项目广东省自然科学基金中国科学院“百人计划”更多>>
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细菌抗氧化系统-oxyR调节子研究进展被引量：10
《微生物学报》2008年第11期1556-1561,共6页汪保卫 施庆珊 欧阳友生 陈仪本 
广东省自然科学基金项目(0610448);广东省教育部产学研合作项目(2007B090400105)~~
细菌抗氧化系统是细菌抵抗呼吸作用及环境因素导致的氧化损伤的一套防卫系统。oxyR调节子是最早发现的具有抗氧化作用的系统之一,由OxyR调节蛋白的编码基因oxyR及其调控的基因和操纵子所构成。oxyR调节子参与了细菌的抗氧化作用、抑制...
关键词：细菌 oxyR调节子 生理代谢作用 调控转录分子机制 
平板型太阳热水器板芯高温耐久性实验方法研究
《武汉大学学报（理学版）》2005年第S2期83-86,共4页王巧 沈辉 舒杰 汪保卫 
广东省科技攻关资助项目(2002B30804)
为了研究平板型太阳热水器板芯表面的高温耐久性,结合国外的实验方法及国内的应用特点设计了本实验方法.该方法以板芯表面光学性能的衰减来推断系统的寿命,即在一定的高温实验条件下模拟加速衰减过程,以板芯表面光学性能衰减小于5%作为...
关键词：板芯表面 耐久性 高温 光学性能 实验设计 
氧流量对直流反应磁控溅射制备TiO_2薄膜的光学性质的影响被引量：9
《中山大学学报（自然科学版）》2005年第6期36-40,共5页王贺权 沈辉 巴德纯 汪保卫 闻立时 
国家自然科学基金资助项目(50376067)
应用DC(直流)反应磁控溅射设备在硅基底上制备TiO2薄膜,在工作压强为2.0×10-1Pa,氩气流量为42.6 sccm,溅射时间为30 min的条件下,通过控制氧流量改变TiO2薄膜的光学性质。应用n&k Analyzer 1200分析器测量,当氧流量增加时薄膜的平均反...
关键词：二氧化钛薄膜 直流反应磁控溅射 氧流量 反射率 
温度对直流反应磁控溅射制备TiO_2薄膜光学性质的影响被引量：4
《材料科学与工程学报》2005年第3期341-344,共4页王贺权 沈辉 巴德纯 汪保卫 闻立时 
国家自然科学基金资助项目 (50 3760 67)
应用DC(直流 )反应磁控溅射设备在硅基底上制备TiO2 薄膜 ,在固定的电源功率下 ,氩气流量为 4 2 .6sccm ,氧流量为 15sccm ,溅射时间为 30分钟的条件下 ,通过控制温度改变TiO2 薄膜的光学性质。应用n&kAnalyzer 12 0 0测量 ,当温度增加...
关键词：二氧化钛薄膜 直流反应磁控溅射 温度 反射率 
靶基距对直流反应磁控溅射制备TiO_2薄膜光学性质的影响被引量：4
《真空》2005年第1期11-14,共4页王贺权 沈辉 巴德纯 汪保卫 闻立时 
国家自然科学基金项目(50376067)。
应用DC(直流)反应磁控溅射设备在硅基底上制备TiO2薄膜,在固定的电源功率下,氩气流量为42.6sccm,氧流量为15sccm,溅射时间为30min的条件下,通过控制靶基距改变TiO2薄膜的光学性质。应用n&kAnalyzer1200测量,当靶基距增加时薄膜的平均反...
关键词：二氧化钛薄膜 直流反应磁控溅射 靶基距 反射率 
总气压对直流反应磁控溅射制备TiO_2薄膜的光学性质的影响被引量：5
《真空科学与技术学报》2005年第1期65-68,共4页王贺权 巴德纯 沈辉 汪保卫 闻立时 
国家自然科学基金 (5 0 3 760 67)
用DC(直流 )反应磁控溅射设备在硅基底上制备TiO2 薄膜 ,在固定电源功率、氩气流量 4 2 .6sccm、氧流量 15sccm、溅射时间 30min的条件下 ,通过控制总气压改变TiO2 薄膜的光学性质。应用n&kAnalyzer12 0 0测量 ,当总气压增加时薄膜的平...
关键词：TIO2薄膜 光学性质 直流反应磁控溅射 折射率 气压 晶体结构 硅基底 短波 对消 反射率 
纳米TiO_2薄膜的应用机理研究被引量：3
《真空》2004年第5期7-10,共4页王贺权 巴德纯 沈辉 汪保卫 陈达 
纳米 Ti O2 薄膜是近几年才发展起来的一种新型材料。本文介绍了 Ti O2 的三种晶型和它们的物理参数及性质 ,并对纳米 Ti O2 薄膜在光催化、光降解 ,新型太阳电池 。
关键词：纳米薄膜 二氧化钛 应用机理 
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