魏少红

作品数:3被引量:12H指数:3
导出分析报告
供职机构:中国科学院高能物理研究所更多>>
发文主题:散裂中子源热等静压出口更多>>
发文领域:金属学及工艺核科学技术动力工程及工程热物理更多>>
发文期刊:《材料保护》《稀有金属》《原子能科学技术》更多>>
所获基金:国家自然科学基金更多>>
-

检索结果分析

署名顺序

  • 全部
  • 第一作者
结果分析中...
条 记 录,以下是1-3
视图:
排序:
氦离子辐照对纯钨表层纳米压痕硬度的影响被引量:3
《稀有金属》2022年第11期1520-1525,共6页魏少红 陈怀灿 袁野 殷雯 纪全 赵海龙 
国家重点研发计划项目(2017YFE0106100);中科院高能所科技创新项目(2020-高功率靶材关键技术及辐照效应研究);国家自然科学基金联合基金项目(U1932219)资助。
钨作为散裂中子源固体靶的首选材料,钨的辐照损伤及氦行为研究被广泛关注。本文对高纯钨片进行常温氦离子注入,氦离子能量350 keV,注入剂量分别为1×10^(16),5×10^(16)和1×10^(17)ions·cm^(-2)。利用纳米压痕测量技术表征He注入前后...
关键词: 氦离子 纳米压痕 氦泡 微观结构 
中国散裂中子源靶体研制被引量:4
《原子能科学技术》2019年第12期2441-2446,共6页魏少红 张锐强 史英丽 陆友莲 王松林 于全芝 纪全 梁天骄 
中国散裂中子源(CSNS)靶体选用钨为靶材、钽为包覆层,采用包套法结合热等静压扩散焊工艺制备了钽包覆钨靶片。经检测,钨钽界面结合良好,钽层与钨基体平均结合强度大于64.07 MPa。靶体将钨靶片分成厚度不等的11片,散热采用一进一出的并...
关键词:中国散裂中子源 靶体 钨靶片 遥控维护 
热等静压对钨基体表面等离子喷涂钽层组织及性能的影响被引量:6
《材料保护》2013年第11期6-8,5,共3页魏少红 纪全 张锐强 蒋驰 
目前,国内鲜有钨块包覆钽材的报道。于氩气气氛保护下在钨材表面等离子喷涂钽层,然后对其进行热等静压处理。采用扫描电镜观察涂层热等静压前后微观形貌,采用能谱仪测试其成分,采用X射线衍射仪测试其相结构,采用力学试验测试其力学性能...
关键词:等离子喷涂 热等静压 钽涂层 钨基体 致密度 力学性能 
检索报告 对象比较 聚类工具 使用帮助 返回顶部