赵小跟

作品数:1被引量:1H指数:1
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供职机构:同济大学材料科学与工程学院更多>>
发文主题:CVDZRB2TIB2化学气相淀积硼化锆更多>>
发文领域:理学更多>>
发文期刊:《化学工程与装备》更多>>
所获基金:教育部“新世纪优秀人才支持计划”国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
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CVD制备MB_2(M=Ti,Zr,Hf)研究进展被引量:1
《化学工程与装备》2010年第10期119-125,共7页张涛 何国球 蔡仁涛 赵小跟 
国家"九七三"重点基础研究发展规划资助项目(2007CB714705);国家自然科学基金资助项目(50771073);新世纪优秀人才支持计划资助项目(NCET-05-0388)
MB2(M=Ti,Zr,Hf)是ⅣB族过渡金属的硼化物,化学气相淀积(CVD)是制备MB2类薄膜材料和保护涂层的最有效技术之一。对MB2类材料CVD制备的热力学进行了简要分析。阐述了反应前驱体的选择和应用。对近年来MB2类材料的CVD合成制备的最新研究...
关键词:化学气相淀积(CVD) 硼化钛(TiB2) 硼化锆(ZrB2) 硼化铪(HfB2) 
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