王曦雯

作品数：1被引量：4H指数：1
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供职机构：合肥工业大学电子科学与应用物理学院更多>>
发文主题：磁控溅射减反膜TIOSIO基片更多>>
发文领域：电子电信一般工业技术更多>>
发文期刊：《合肥工业大学学报（自然科学版）》更多>>
所获基金：安徽省自然科学基金安徽省高校省级自然科学研究项目更多>>
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SiO_2/TiO_2减反膜系的制备和性能测试被引量：4
《合肥工业大学学报（自然科学版）》2012年第4期496-498,551,共4页王曦雯 何晓雄 胡佳宝 
安徽省自然科学基金资助项目(11040606M63);安徽省高校省级自然科学研究重点资助项目(KJ2009A091)
由于减反射薄膜的性能受制备工艺的影响很大,文章采用SiO2和TiO2作为低、高折射率膜料,采用磁控溅射法在玻璃基片上制备了多层减反射膜系,研究了制备工艺对薄膜性能的影响,从理论和实验2个方面得出了制备的多层减反射膜系在450～625nm...
关键词：减反射薄膜 磁控溅射 制备工艺 薄膜性能 
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