訾威

作品数:1被引量:1H指数:1
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供职机构:中国科学院研究生院更多>>
发文主题:MONTE_CARLO_SIMULATIONPROCESSMICROCRYSTALLINE更多>>
发文领域:理学更多>>
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所获基金:国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划国家高技术研究发展计划更多>>
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Growth Mechanism of Microcrystalline Silicon Films by Scaling Theory and Monte Carlo Simulation被引量:1
《Journal of Semiconductors》2008年第8期1465-1468,共4页訾威 周玉琴 刘丰珍 朱美芳 
国家高技术研究发展计划(批准号:2006AA05Z408);国家重点基础研究发展计划(批准号:2006CD202601,G2000028208);国家自然科学基金(批准号:10404038)资助项目~~
Hydrogenated microcrystalline silicon (~c-Si:H) films with a high deposition rate of 1.2nm/s were prepared by hot-wire chemical vapor deposition (HWCVD). The growth-front roughening processes of the μc-Si..H fil...
关键词:μc-Si:H growth mechanism scaling theory Monte Carlo simulations  reemission process 
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