孙长庆

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对向靶溅射TiN薄膜的结构和物性
《金属学报》1995年第1期B031-B034,共4页刘裕光 姜恩永 程启 孙长庆 
利用对向靶溅射（ＦＴＳ）沉积出（１１１）择优取向的单相ＴｉＮ膜，膜硬度（ＨＶ）最高可达３８００，择优取向随基板偏压增高，可由（１１１）转向（２００），晶格常数随氮气分压增高而增大，这是氮原子进入四面体间隙引起的。
关键词：薄膜 溅射 织构系数 氮化钛 
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