董启明

作品数：1被引量：5H指数：1
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发文主题：自组装液体表面张力产出率旋涂胶体更多>>
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表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析(英文)被引量：5
《光子学报》2012年第5期558-564,共7页董启明 郭小伟 
The National Natural Science Foundation of China(No.60906052)
表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻...
关键词：干涉光刻 表面等离子体激元 克莱舒曼结构 
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