杨伟

作品数：3被引量：14H指数：2
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发文主题：ESD保护ESDCMOS工艺CMOS芯片更多>>
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基于CMOS工艺的全芯片ESD保护电路设计被引量：8
《微电子学》2010年第3期396-399,共4页向洵 刘凡 杨伟 徐佳丽 
介绍了几种常用ESD保护器件的特点和工作原理,通过分析各种ESD放电情况,对如何选择ESD保护器件,以及如何设计静电泄放通路进行了深入研究,提出了全芯片ESD保护电路设计方案,并在XFAB 0.6μm CMOS工艺上设计了测试芯片。测试结果表明,芯...
关键词：CMOS ESD 全芯片ESD保护 
基于Skill语言的版图数据处理程序开发被引量：2
《微电子学》2009年第2期256-258,共3页李遥 杨伟 温玉 
G3600图形发生器采用光栅曝光,只能识别矩形或旋转的矩形。然而,Cadence软件中的Virtuoso版图工具未提供将不规则图形转换为矩形的功能,需要借助Skill语言在Cadence的Virtuoso版图工具上对版图数据进行二次开发。文章以圆为例,列举了Sk...
关键词：Skill语言 版图数据处理 Virtuoso版图工具 DFII 
基于Cadence界面的工艺设计包设计方法被引量：4
《微电子学》2005年第5期504-508,共5页杨伟 李儒章 
详细阐述了基于Cadence界面的工艺设计包(PDK)的框架结构及设计方法;采用该方法,在Cadence界面上设计了一套实用的PDK库siscPDK;用实际的IC单元电路进行了验证,得到了正确的结果,证明了该方法的可行性。
关键词：工艺设计包 电子设计自动化 Cadence软件 集成电路 
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