段炼

作品数:1被引量:2H指数:1
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供职机构:上海交通大学微纳米科学技术研究院微米纳米加工技术国家级重点实验室更多>>
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SU-8光刻胶氧刻蚀的研究被引量:2
《压电与声光》2006年第5期591-593,共3页段炼 朱军 陈迪 刘景全 
国家重点实验室基金资助项目(51485030105JW0801)
采用氧气反应离子刻蚀(RIE)SU-8光刻胶,以获得三维SU-8微结构(如斜面)。实验采用套刻、溅射、湿法腐蚀、电镀等技术实现光刻胶上镍掩膜图形化。分别研究氧气气压、射频(RF)功率、氧气流量对刻蚀速率的影响,并对实验结果进行了理论分析,...
关键词:SU-8光刻胶 反应离子刻蚀(RIE) 氧气 
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