何刚

作品数：1被引量：3H指数：1
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供职机构：中国电子科技集团第十三研究所更多>>
发文主题：FTIR氩PECVD氮化硅等离子体增强化学气相沉积更多>>
发文领域：电子电信更多>>
发文期刊：《微纳电子技术》更多>>
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氩稀释无氨氮化硅薄膜的制备被引量：3
《微纳电子技术》2016年第5期345-350,共6页赵润 高鹏飞 刘浩 李庆伟 何刚 
氮化硅(SiNx)薄膜是一种广泛应用于半导体光电器件的介质膜,其性质的优劣直接影响器件的性能。使用SiH4与NH3作为反应气体制备出的氮化硅薄膜含有大量氢,应用于某些光电器件时,会导致器件工作时光电特性不稳定。针对此问题研发了一种使...
关键词：氮化硅(SiNx)薄膜 等离子体增强化学气相沉积(PECVD) 无氨工艺 氩稀释 傅里叶变换红外光谱分析法(FTIR) 
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