游智星

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芯片制造中因缺陷扫描由激光导致的损伤研究(英文)
《电子工业专用设备》2007年第8期55-60,共6页彭坤 游智星 
在集成电路芯片制造中,激光被广泛应用于缺陷扫描或者相关的光学量测工具中。未见报道低功率的缺陷扫描时,输出功率仅数百毫瓦且扫描速度很快时,会对熔点达1420℃上的硅芯片造成影响,在制造中以Compass为代表的缺陷扫描工具被广泛而无...
关键词：激光 损伤 缺陷扫描 集成电路芯片制造 
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