周治鑫

作品数：1被引量：7H指数：1
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供职机构：成都精密光学工程研究中心更多>>
发文主题：材料去除率表面粗糙度光学元件聚氨酯抛光更多>>
发文领域：化学工程更多>>
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光学元件聚氨酯抛光特性研究被引量：7
《光电工程》2008年第11期139-144,共6页李亚国 王健 许乔 杨炜 周治鑫 郭隐彪 
国家高技术研究发展计划863-804项目资助
本文研究了应用于平面光学元件的快速抛光技术,从材料去除率、元件面形和表面粗糙度出发,对快速抛光技术应用于平面大口径元件的加工效果进行了探讨。研究了在快速抛光技术中压力和主轴转速对材料去除率的影响,验证了Preston公式在快速...
关键词：聚氨酯 材料去除率 元件表面面形 表面粗糙度 
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