王自力

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供职机构：西南应用磁学研究所更多>>
发文主题：光刻涂胶铁氧体更多>>
发文领域：一般工业技术电气工程更多>>
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铁氧体薄膜器件的光刻多次涂胶工艺
《磁性材料及器件》2014年第2期49-52,共4页陈学平 陈彦 倪经 王自力 
中国电子科技集团公司技术创新基金资助项目(JJ1025)
提出了铁氧体薄膜器件光刻多次涂胶新工艺,研究了涂覆次数对光刻胶的表面粗糙度、均匀性和厚度的影响。同时结合培烘试验,对一种实际电路基片进行了验证。试验结果表明:随着光刻胶涂覆次数的增加,光刻胶厚度逐渐增大,增加幅度逐渐减小,...
关键词：铁氧体薄膜器件 光刻 多次涂胶 
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