张金灿

作品数:1被引量:6H指数:1
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供职机构:北京大学更多>>
发文主题:石墨烯化学气相沉积铜基厘米级洁净度更多>>
发文领域:一般工业技术化学工程理学文化科学更多>>
发文期刊:《物理化学学报》更多>>
所获基金:国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
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气相反应对CVD生长石墨烯的影响被引量:6
《物理化学学报》2022年第1期36-51,共16页陈恒 张金灿 刘晓婷 刘忠范 
国家重点基础研究发展规划项目(2016YFA0200103,2018YFA0703502);国家自然科学基金(51520105003,52072042);北京分子科学国家研究中心(BNLMS-CXTD-202001);北京市科学技术委员会(Z18110300480001,Z18110300480002)资助。
化学气相沉积法(CVD)制备的石墨烯薄膜具有质量高、均匀性好、层数可控且可放大等优点,近年来受到了学术界和工业界的广泛关注。在高温CVD生长过程中,除衬底表面的反应外,气相反应同样会影响石墨烯的生长行为和薄膜质量。本文将综述气...
关键词:石墨烯薄膜 化学气相沉积 气相反应 高品质 可控制备 
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