微米级台阶高度测量方法对比  

作　　者：王强栋[1] 韩志国[1] 

机构地区：[1]中国电子科技集团公司第十三研究所,河北石家庄050051

出　　处：《精品》2020年第17期261-262,共2页

摘　　要：本文通过两种台阶高度测试方法的测试比对,佐证了白光干涉技术在微米级台阶高度测量方面精度很高。首先,介绍了白光干涉仪的测量原理,详细介绍了该仪器的组成及测量过程;其次,对台阶高度的定义及其表征方法进行了论述,为台阶高度的测量提供了规范性的指导;最后,分别使用白光干涉仪和纳米坐标测量机(NMM)对本单位研制的2μm^100μm 的6 块台阶高度标准样块进行了比对测量,比对结果的En 值最大为-0.4,表明白光干涉仪测量台阶高度精度很高,完全满足微米级台阶测量需求。在半导体、微纳电子制造工艺中, 白光干涉技术是一种值得推广的台阶高度测量技术。

关 键 词：白光干涉 台阶高度 标准样块 纳米测量机 

分 类 号：F[经济管理]