金刚石膜中氮杂质状态的研究  

The study for nitrogen impurity states in diamond films grown by EA-CVD method

作　　者：金曾孙[1] 吕宪义[1] 杨广亮[1] 吴汉华[1] 李哲奎[1] 刘建设[1] 

机构地区：[1]吉林大学,超硬材料国家重点实验室,吉林,长春,130012 吉林大学,超硬材料国家重点实验室,吉林,长春,130012 吉林大学,超硬材料国家重点实验室,吉林,长春,130012 吉林大学,超硬材料国家重点实验室,吉林,长春,130012 延边大学,物理系,吉林,延吉,133000 河南黄河旋风有限责任公司,河南,长葛,461500

出　　处：《功能材料》2004年第z1期3314-3316,3319,共4页Journal of Functional Materials

基　　金：国家"863"计划资助项目

摘　　要：用EA-CVD(Electron assisted Chemical Vapor Deposition)方法制备出金刚石膜,并且用拉曼光谱、荧光谱、红外吸收谱和顺磁共振谱研究了金刚石膜中的氮杂质.实验结果表明,用EA-CVD方法制备的金刚石膜中氮杂质主要是以Ns0、Ns+、[N-V]0和[N-V]-1的形式存在,没有检测到在天然金刚石和高温高压金刚石中常见的A和B中心形式存在的氮杂质.沉积实验中随着氢气流量的增加,也就是金刚石膜沉积环境中氮浓度的减少,金刚石膜中氮杂质含量减少.

关 键 词：EA-CVD方法 金刚石膜 氮杂质 

分 类 号：TN304.18[电子电信—物理电子学]