GEM膜研制进展  

作　　者：李笑梅 胡守扬 周静 单超 蹇司玉 李兴隆 周书华 

机构地区：[1]核物理研究所

出　　处：《中国原子能科学研究院年报》2013年第1期74-74,共1页

基　　金：国家自然科学基金资助项目(11175262,11020101060);973计划资助项目

摘　　要：GEM膜理想的直径为70μm与间距为140μm。通过合作渠道获得了一些美国生产的GEM原膜的样品,可同CERN的原膜样品做比较。很多PCB技术在GEM膜的制造过程中被应用。现在已完成的工作为:1)掩膜板制作。将GEM膜的图案打印到掩模板上。2)干膜光刻胶的层压。使用热辊层压机将干膜光刻胶压到GEM原膜上。3)干膜光刻胶的曝光。曝光系统包括一个曝光单元、真空接触框架,光源冷却和曝光控制装置。通过曝光,会将掩模板图案精确地拷贝到干膜光刻胶上。

关 键 词：光刻胶 干膜 研制进展 GEM 掩模板 曝光控制 美国生产 会将 制造过程 合作渠道 

分 类 号：TL81[核科学技术—核技术及应用]