掩模板

作品数：86被引量：169H指数：6
导出分析报告
相关领域：电子电信更多>>
相关作者：李新忠台玉萍谢振宇徐少颖马海祥更多>>
相关机构：京东方科技集团股份有限公司昆山允升吉光电科技有限公司成都京东方光电科技有限公司北京京东方光电科技有限公司更多>>
相关期刊：更多>>
相关基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划国家重点基础研究发展计划湖北省教育厅重点项目更多>>
-
在结果中检索

检索结果分析

结果分析中...
共 条 记 录，以下是1-10
全选清除导出
参考文献引证文献引用追踪
视图：
排序：
立方涡旋相位掩模板编码成像系统激光致盲防护性能研究(特邀)
《激光与光电子学进展》2024年第20期109-116,共8页叶庆 李仰亮 吴云龙 刘烨 张君宇 胡以华 罗皓琦 
国家资助博士后研究人员计划(GZC20233531);基础加强计划技术领域基金(2021-JCJQ-JJ-0284,2022-JCJQ-JJ-0237);先进激光技术安徽省实验室基金(AHL2022ZR03)。
针对立方相位掩模板(CPM)和涡旋相位掩模板(VPM)编码成像系统对距离为1 km以上的长距离激光致盲防护能力弱的问题,提出一种基于立方涡旋相位掩模板(CVPM)调控元件的编码成像系统。采用数值仿真方法定量研究CVPM编码成像系统的成像质量...
关键词：相位编码 成像系统 成像质量 激光致盲防护 
基于飞秒激光直写技术的金属图案化研究(特邀)
《中国激光》2024年第12期431-439,共9页庞茂璋 邱毅伟 曹春 匡翠方 
国家自然科学基金(22105180);浙江省尖兵领雁重点研发项目(2023C01186、2023C01051);之江实验室重大科学项目(2020MC0AE01);浙江省自然科学基金(LQ22F050017)。
飞秒激光直写是一种新型的纳米加工技术,但由于飞秒激光和金属的光热效应会产生激光烧蚀现象,难以直接在金属上实现高质量图案转移。结合飞秒激光直写技术和剥离(lift-off)工艺,开发了一种新型金属图案转移技术,可成功实现亚微米精度(0...
关键词：激光技术 飞秒激光直写 剥离工艺 金属图案化 掩模板加工 光刻胶 
立体视区完整的无串扰集成成像3D显示被引量：1
《激光与光电子学进展》2023年第8期286-291,共6页邓慧 吕国皎 吴非 杨梅 邓欢 
国家自然科学基金(62275179);四川省重点研发项目(2022YFG0326);成都工业学院实验开放基金项目(2021CX003002)。
集成成像三维(3D)显示技术具有连续视点、无需助视设备等特点,但普遍存在的视觉串扰现象严重影响立体观看效果。分析图像元在立体视区成像的有效像素区域,推导出图像元上的串扰图像区域分布的变化规律,提出一种立体视区完整的无串扰集...
关键词：集成成像 立体视区 掩模板阵列 无串扰 
基于数字微镜器件的无光罩技术应用
《集成电路应用》2022年第10期20-22,共3页薛瑞 
阐述数字微镜技术,基于数字微镜器件的光刻机特性,包括降低掩模成本、减小曝光关键尺寸CD,探讨基于数字微镜器件的光刻机技术应用。
关键词：数字微镜器件 掩模板 数字光刻 屏幕编号 
基于相位掩模板的常规光纤制备弱反射光栅被引量：2
《激光技术》2022年第2期149-154,共6页顾宏灿 姚高飞 黄俊斌 丁朋 
国家自然科学基金资助项目(11774432)。
为了探索采用常规单模光纤制备弱反射光纤光栅的可行性,以降低材料成本和传输损耗,基于相位掩模板法,在常规单模光纤上刻制弱反射光纤布喇格光栅(WFBG),并进行了实验验证。建立相位掩模板刻栅系统光场统一方程,分析光场分布对光纤布喇...
关键词：光纤光学 弱反射光纤布喇格光栅 相位掩模板 单模光纤 衍射光场 
新型激光直写的方法与技术
《中国科技成果》2021年第18期71-72,共2页刘前 郭传飞 王永胜 张浩然 张建明 
激光直写是一类重要的微纳米加工技术,广泛用于高精度掩模板、MEMS、微纳米结构的制造等领域。依据阿贝成像原理,提高激光系统加工分辨率有缩短波长和增大物镜数值孔径两条技术道路,现均已发展到极致,但激光加工分辨率仍然徘徊在微米量...
关键词：激光直写 加工分辨率 激光系统 数值孔径 微纳米结构 掩模板 光刻胶 阿贝成像原理 
掩模板法制备单根In_(2)O_(3)纳米带器件
《科学技术创新》2021年第23期189-190,共2页艾鹏 蔡彦 杜国芳 马殿旭 李旋 李波 
一维纳米材料的智能化、小型化以及元件的高集成特性使得其在纳米光电子学、真空微电子传感器件和光集成电路等方面的应用发展迅速;其独特的物理、化学性质在发光二极管、压电转换器件和光催化纳米器件等领域的应用潜力也受到了广泛关...
关键词：掩模板法 In_(2)O_(3)纳米带 单根纳米带器件 
基板颗粒快速检测技术的研究
《科技创新与应用》2021年第18期8-11,15,共5页蓝科 刘逍 李润芝 
为了检测光刻机掩模板或玻璃基板表面的杂质颗粒,结合米氏散射理论与暗场检测原理,通过杂质颗粒在固定空间角的散射光能量来标定颗粒的数目与尺寸。以激光整形光路形成均匀性良好的线型激光对样品表面进行照明,在非反射方向使用线阵CCD...
关键词：颗粒检测技术 暗场检测 米氏散射 掩模板 激光整形 
我国光掩模玻璃基板的发展现状及趋势
《玻璃》2021年第1期1-6,共6页刘志海 
1光掩模玻璃基板的定义及种类1.1光学掩模板的定义及分类1.1.1光学掩模板的定义光学掩模板,又称光掩模板、掩模板、掩膜版、光掩膜、光刻掩膜版、光罩等,在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位,以便用于光致抗蚀剂涂...
关键词：玻璃基板 光刻工艺 玻璃基体 光致抗蚀剂 微电子制造 光学掩模 掩模板 光掩膜 
我国光掩模玻璃基板的发展现状及趋势
《建筑玻璃与工业玻璃》2020年第10期8-12,共5页刘志海 
1光掩模玻璃基板的定义及种类1.1光学掩模板的定义及分类1.1.1光学掩模板的定义光学掩模板,又称光掩模板、掩模板、掩膜版、光掩膜、光刻掩膜版、光罩等,在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位,以便用于光致抗蚀剂涂...
关键词：光刻工艺 掩模板 光致抗蚀剂 微电子制造 光学掩模 光掩膜 光掩模 玻璃基板 
全选清除导出
共9页<123456789>
检索报告 对象比较 聚类工具 使用帮助 返回顶部