我国光掩模玻璃基板的发展现状及趋势  

Domestic Development Status and Trend of Photomask Glass Substrate

作　　者：刘志海 LIU Zhihai(不详)

机构地区：[1]不详

出　　处：《玻璃》2021年第1期1-6,共6页Glass

摘　　要：1光掩模玻璃基板的定义及种类1.1光学掩模板的定义及分类1.1.1光学掩模板的定义光学掩模板,又称光掩模板、掩模板、掩膜版、光掩膜、光刻掩膜版、光罩等,在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位,以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构,是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版。光掩模板应用十分广泛,在涉及光刻工艺的领域都需要使用光掩模板,主要用于集成电路(IC)、平板显示器(FPD)、印刷电路板(PCB)、微机电系统(MEMS)等领域。

关 键 词：玻璃基板 光刻工艺 玻璃基体 光致抗蚀剂 微电子制造 光学掩模 掩模板 光掩膜 

分 类 号：TQ171[化学工程—玻璃工业]