一种制备c-BN表面硬化层的新方法  

作　　者：王钧石[1] 

机构地区：[1]西南交通大学材料科学与工程学院

出　　处：《学术动态（成都）》2004年第3期25-27,共3页

摘　　要：立方氮化硼(c-BN)是一种倍受重视的类金刚石材料。在迄今发现的所有物质中，其硬度居第二位(仅次于金刚石)。此外，c-BN还具有远比金刚石高的热稳定性，极其优良的半导体性和光学性能。因此，c-BN在高温耐磨零件，切削刀具、高温电子元件和光学仪器上得到广泛应用。目前所采用的c-BN薄膜的制备方法主要是：化学气相沉积(CVD)。

关 键 词：表面硬化 耐磨零件 切削刀具 立方氮化硼 物理气相沉积 金刚石 CVD BN 新方法 制备 类金刚石材料 

分 类 号：O484.1[理学—固体物理] TG156[理学—物理]