一种新型接触式双面对版曝光机  

作　　者：武世香 邹斌[1] 陈士芳[1] 

机构地区：[1]哈尔滨工业大学

出　　处：《电子工业专用设备》1994年第2期48-51,25,共5页Equipment for Electronic Products Manufacturing

摘　　要：本文介绍一种新型双面对版曝光机。该机由传统的单面曝光机改装而成，结构简单，工作原理新颖，操作简便，能方便地在任意中间工序实现晶片定向和双面图形对准曝光。双面图形对准偏差可控制在±１０μｍ以内。本文并分析比较了各种双面对版曝光设备和技术特点。

关 键 词：双面对版 接触 硅片 曝光机 

分 类 号：TN305.07[电子电信—物理电子学]