优化的基于模型的光学邻近矫正算法  

Optimization Algorithm for Model-Based Optical Proximity Correction 

作　　者：蔡懿慈[1] 王旸[1] 周强[1] 洪先龙[1] 

机构地区：[1]清华大学计算机科学与技术系,北京100084

出　　处：《Journal of Semiconductors》2005年第3期601-605,共5页半导体学报（英文版）

基　　金：国家自然科学基金资助项目(批准号:90307017)~~

摘　　要：提出了一种新的优化的基于模型的光学邻近矫正算法,该算法充分考虑了图形内部及图形之间的光学邻近影响,实现了线段切割和移动步长的自适应性,提高了系统的矫正精度及矫正速度,实验结果表明该算法是有效的.The optimization algorithm considering the surrounding feature influences is presented.The algorithm implements the single loop optimization for the target feature and the dual loop optimization between the target features and the surrounding features by using the self adaptive step cutting and moving strategy.The experiments show that this algorithm can achieve much improvement in correction precision and efficiency.

关 键 词：光刻 光学邻近效应 基于模型的光学邻近矫正 

分 类 号：TN405.97[电子电信—微电子学与固体电子学]