王旸

作品数：4被引量：8H指数：2
导出分析报告
供职机构：清华大学信息科学技术学院计算机科学与技术系更多>>
发文主题：光刻OPC成品率掩模版掩模更多>>
发文领域：电子电信更多>>
发文期刊：《Journal of Semiconductors》更多>>
所获基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
-
在结果中检索

检索结果分析

署名顺序

  • 全部
  • 第一作者
结果分析中...
共 条 记 录，以下是1-4
全选清除导出
参考文献引证文献引用追踪
视图：
排序：
光学邻近效应矫正(OPC)技术及其应用被引量：3
《中国科学（E辑）》2007年第12期1607-1619,共13页蔡懿慈 周强 洪先龙 石蕊 王旸 
国家自然科学基金资助项目(批准号:60476014)
随着集成电路设计和制造进入超深亚微米(VDSM)阶段,特征尺寸已经接近甚至小于光刻工艺中所使用的光波波长,因此光刻过程中,由于光的衍射和干涉现象,实际硅片上得到的光刻图形与掩膜版图形之间存在一定的变形和偏差,光刻中的这种误差直...
关键词：光学邻近效应矫正 基于规则 基于模型 版图 集成电路 
优化的基于模型的光学邻近矫正算法
《Journal of Semiconductors》2005年第3期601-605,共5页蔡懿慈 王旸 周强 洪先龙 
国家自然科学基金资助项目(批准号:90307017)~~
提出了一种新的优化的基于模型的光学邻近矫正算法,该算法充分考虑了图形内部及图形之间的光学邻近影响,实现了线段切割和移动步长的自适应性,提高了系统的矫正精度及矫正速度,实验结果表明该算法是有效的.
关键词：光刻 光学邻近效应 基于模型的光学邻近矫正 
成品率驱动下基于模型的掩模版优化算法被引量：5
《Journal of Semiconductors》2004年第3期351-357,共7页王旸 蔡懿慈 石蕊 洪先龙 
提出并实现了以分段分类思想为基础的掩模版优化算法 ,它是一种基于模型的光学邻近效应方法 .该算法具有矫正精度高、灵活性强和矫正效率较高的特点 ,适合于版图中关键图形的矫正 .实验表明 ,该优化算法可以实现矫正功能并且具有很好的...
关键词：掩模 光刻 基于模型的光学邻近矫正 
An Efficient Approach to Rules-Based Optical Proximity Correction
《Journal of Semiconductors》2003年第12期1266-1271,共6页李卓远 吴为民 王旸 洪先龙 
清华大学 985基础研究项目;国家高技术研究发展计划 (No.2 0 0 2 AA1Z14 60 )资助项目~~
A new approach for rules-based optical proximity correction is presented.The discussion addresses on how to select and construct more concise and practical rules-base as well as how to apply that rules-base.Based on t...
关键词：rules-base v-support vector regression OPC 
全选清除导出
共1页<1>
检索报告 对象比较 聚类工具 使用帮助 返回顶部